设备二维材料制备CVD系统特点：此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助二维材料蒸发，后端为双温区管式炉，温度控制精确，操作简便。并配质量流量计系统和真空系统，可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量，对于做低压CVD实验非常实用，重复性好。

  二维材料制备CVD系统

硫粉预热器

工作温度：400℃

z高温度：1200℃

z快升温速率：≤30℃/min

推荐升温速率：10℃/min

控温方式：智能化30段可编程控制

工作电压：AC220V

额定功率：800W

控温精度：±1℃

加热元件：电阻丝

加热区参数

 

额定功率：5kw

z高温度：1200℃

工作温度：1100℃

z大升降温速率：≤30℃/min

炉管尺寸：高纯度石英管Φ25Φ50Φ60Φ80Φ100x1650mm  (管径可选)

加热区长度：200+200mm

恒温区长度：290mm

控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能。

标准配件：石英管1支，莫来石管堵2对，不锈钢法兰1套，硅胶密封圈2套，高温手套1副，坩埚钩1支；

尺寸：约 550×380×600 mm（炉子）

约：1700×380×620 mm（炉子+滑轨）

可选配单温区、双温区、三温区等加热区。
https://www.chem17.com/st235110/product_36398691.html
http://www.ahbeiyike.com/SonList-2301667.html