OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。  
特征：  
1、与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验  
2、对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制  
3、通过工艺调节来控制化学计量  
4、能够广泛地用于各种材料沉积，如SiOx,SiNx,SiOxNy和无定型硅(a-Si:H)等.  
技术参数  
开启式管式炉  
输入电源：208–240VAC,1.2kW  
zui高工作温度1200℃（小于1小时）  
连续使用温度1100℃  
采用高纯氧化铝作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可延长仪器使用寿命和提高加热效率  
高纯石英炉管，尺寸为50mmODx44mmIDx780mmL  
可设置30段升降温程序，并带有过热和断偶保护  
加热区长度为200mm,恒温区长度为60mm(+/-1°C)
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